Teknolojia za Kugundua Usafi kwa Vyuma vya Usafi wa Juu

Ufuatao ni uchanganuzi wa kina wa teknolojia za hivi punde, usahihi, gharama, na hali za matumizi:

I. Teknolojia za Ugunduzi wa Hivi Punde

1. .Teknolojia ya Kuunganisha ya ICP-MS/MS.

• .Kanuni: Hutumia tandem mass spectrometry (MS/MS) ili kuondoa mwingiliano wa matrix, pamoja na matibabu bora zaidi (kwa mfano, usagaji wa asidi au kuyeyuka kwa microwave), kuwezesha ugunduzi wa ufuatiliaji wa uchafu wa metali na metalloid katika kiwango cha ppb.
• .Usahihi: Kikomo cha ugunduzi ni cha chini kama0.1 ppb, yanafaa kwa metali safi kabisa (≥99.999% usafi)
• .Gharama: Gharama kubwa ya vifaa (~285,000-285,000-714,000 USD), yenye mahitaji makubwa ya matengenezo na uendeshaji

1. .ICP-OES yenye Azimio la Juu.

• .Kanuni: Hukadiria uchafu kwa kuchanganua mwonekano wa utoaji wa kipengele mahususi unaotokana na msisimko wa plasma.
• .Usahihi: Hutambua uchafu wa kiwango cha ppm na safu pana ya mstari (ukubwa wa mpangilio 5-6), ingawa uingiliaji wa matriki unaweza kutokea.
• .Gharama: Gharama ya wastani ya vifaa (~143,000-143,000-286,000 USD), bora kwa metali za kawaida za usafi wa hali ya juu (usafi wa 99.9% -99.99%) katika majaribio ya bechi.

1. .Glow Discharge Mass Spectrometry (GD-MS).

• .Kanuni: Huongeza moja kwa moja nyuso za sampuli dhabiti ili kuzuia uchafuzi wa suluhisho, kuwezesha uchanganuzi wa wingi wa isotopu.
• .Usahihi: Vikomo vya ugunduzi vinafikiakiwango cha ppt‌, iliyoundwa kwa ajili ya metali safi zaidi ya kiwango cha semiconductor (≥99.9999% usafi).
• .Gharama: Juu sana (> $714,000 USD)), mdogo kwa maabara ya hali ya juu.

1. .Katika Situ X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS).

• .Kanuni: Huchanganua hali ya kemikali ya uso ili kugundua tabaka za oksidi au awamu za uchafu.78.
• .Usahihi: Ubora wa kina wa Nanoscale lakini pekee kwa uchanganuzi wa uso.
• .Gharama: Juu (~$429,000 USD), na matengenezo magumu.

II. Ufumbuzi wa Ugunduzi Unaopendekezwa

Kulingana na aina ya chuma, kiwango cha usafi na bajeti, mchanganyiko wafuatayo unapendekezwa:

1. .Vyuma Safi Sana (> 99.999%).

• .Teknolojia: ICP-MS/MS + GD-MS‌14
• .Faida: Hushughulikia uchafu na uchanganuzi wa isotopu kwa usahihi wa hali ya juu.
• .Maombi: Nyenzo za semiconductor, shabaha za kunyunyiza.

1. .Vyuma vya Kawaida vya Usafi wa Hali ya Juu (99.9%–99.99%).

• .Teknolojia: ICP-OES + Kemikali Titration24
• .Faida: Gharama nafuu (jumla ~$214,000 USD), inasaidia ugunduzi wa haraka wa vipengele vingi.
• .Maombi: Bati la viwandani, shaba, nk.

1. .Vyuma vya Thamani (Au, Ag, Pt).

• .TeknolojiaXRF + Uchunguzi wa Moto68
• .Faida: Uchunguzi usio na uharibifu (XRF) uliooanishwa na uthibitishaji wa kemikali wa usahihi wa juu; jumla ya gharama~71,000-71,000-143,000 USD.
• .Maombi: Vito, pesa, au matukio yanayohitaji sampuli ya uadilifu.

1. .Maombi Nyeti kwa Gharama.

• .Teknolojia: Titration ya Kemikali + Uendeshaji/Uchambuzi wa Joto24
• .Faida: Jumla ya gharamachini ya $29,000 USD, yanafaa kwa SME au uchunguzi wa awali.
• .Maombi: Ukaguzi wa malighafi au udhibiti wa ubora kwenye tovuti.

III. Mwongozo wa Ulinganisho wa Teknolojia na Uchaguzi

Muhtasari

• .Kipaumbele juu ya Usahihi: ICP-MS/MS au GD-MS kwa metali zenye usafi wa hali ya juu, zinazohitaji bajeti muhimu.
• .Ufanisi wa Gharama Uwiano: ICP-OES pamoja na mbinu za kemikali kwa matumizi ya kawaida ya viwandani.
• .Mahitaji Yasiyo ya Uharibifu: XRF + jaribio la moto la madini ya thamani.
• .Vikwazo vya Bajeti: Titration ya kemikali iliyooanishwa na uchanganuzi wa upitishaji/joto kwa SMEs