لوړ پاکوالی سلفر

نن به موږ د لوړ پاکوالي سلفر په اړه بحث وکړو.
سلفر یو عام عنصر دی چې مختلف استعمالونه لري. دا په بارودي موادو کې موندل کیږي (د "څلورو لویو اختراعاتو" څخه یو)، چې په دودیز چینایي درملو کې د هغې د انټي مایکروبیل ملکیتونو لپاره کارول کیږي، او د موادو فعالیت لوړولو لپاره د ربړ ولکانیزیشن کې کارول کیږي. په هرصورت، لوړ پاکوالی سلفر حتی پراخه استعمالونه لري:
د لوړ پاکوالي سلفر کلیدي غوښتنلیکونه
۱. د الکترونیکي توکو صنعت
o د نیمه هادي مواد: د سلفایډ نیمه هادي موادو (د مثال په توګه، کاډیمیم سلفایډ، زنک سلفایډ) چمتو کولو لپاره یا د موادو د ملکیتونو د ښه کولو لپاره د ډوپینټ په توګه کارول کیږي.
o د لیتیم بیټرۍ: لوړ پاکوالی سلفر د لیتیم سلفر بیټرۍ کیتوډونو یوه مهمه برخه ده؛ د هغې پاکوالی په مستقیم ډول د انرژۍ کثافت او د دورې ژوند اغیزه کوي.
۲. کیمیاوي ترکیب
o د لوړ پاکوالي سلفوریک اسید، سلفر ډای اکسایډ، او نورو کیمیاوي موادو تولید، یا د عضوي ترکیب کې د سلفر سرچینې په توګه (د مثال په توګه، د درملو منځګړیتوبونه).
۳. نظري مواد
o د انفراریډ لینزونو او کړکۍ موادو جوړول (د بیلګې په توګه، چالکوجینایډ شیشې) د ځانګړو طول موجونو په حدودو کې د لوړ لیږد له امله.
۴. درمل جوړونه
o د درملو لپاره خام مواد (د مثال په توګه، د سلفر مرهم) یا د راډیو ایزوټوپ لیبل کولو لپاره کیریرونه.
۵. علمي څېړنه
o د سوپر کنډکټینګ موادو، کوانټم نقطو، یا نانو سلفر ذراتو ترکیب، چې خورا لوړ پاکوالي ته اړتیا لري.
_____________________________________________
د سیچوان جینګډینګ ټیکنالوژۍ لخوا د لوړ پاکوالي سلفر پاکولو میتودونه
شرکت د لاندې تخنیکونو په کارولو سره 6N (99.9999٪) د لوړ پاکوالي بریښنایی درجې سلفر تولیدوي:
۱. تقطیر
o اصل: سلفر (د جوش نقطه: ۴۴۴.۶ درجو سانتي ګراد) د خلا یا اتموسفیر د تقطیر له لارې له ناپاکۍ څخه جلا کوي.
o ګټې: صنعتي کچه تولید.
o زیانونه: ممکن د ورته جوش نقطو سره ناپاکۍ وساتي.
۲. د زون تصفیه کول
o اصل: د جامد او مایع مرحلو ترمنځ د ناپاکۍ جلا کولو لپاره یو ویلې شوی زون حرکت کوي.
o ګټې: خورا لوړ پاکوالی (>99.999٪) ترلاسه کوي.
o نیمګړتیاوې: ټیټ موثریت، لوړ لګښت؛ د لابراتوار یا کوچنۍ کچې تولید لپاره مناسب.
۳. د کیمیاوي بخاراتو زیرمه (CVD)
o اصل: ګازي سلفایډونه (د مثال په توګه، H₂S) تجزیه کوي ترڅو د لوړ پاکوالي سلفر په سبسټریټ کې زیرمه کړي.
o ګټې: د خورا پاکوالي سره د پتلي فلم موادو لپاره مثالی.
o زیانونه: پیچلي تجهیزات.
۴. د محلول کرسټال کول
o اصل: د محلولونو (لکه CS₂، ټولوین) په کارولو سره سلفر بیا کرسټال کوي ترڅو ناپاکۍ لرې کړي.
o ګټې: د عضوي ناپاکۍ لپاره مؤثره.
o زیانونه: د زهرجن محلولونو اداره کول اړین دي.
_____________________________________________
د برېښنايي/نظري درجې لپاره د پروسې اصلاح (۹۹.۹۹۹۹٪+)
د زون تصفیه + CVD یا CVD + محلول کرسټالیزیشن په څیر ترکیبونه کارول کیږي. د پاکولو ستراتیژي د ناپاکۍ ډولونو او پاکوالي اړتیاو سره سم جوړه شوې ده، چې موثریت او دقت ډاډمن کوي.
دا طریقه د دې مثال ورکوي چې څنګه هایبرډ میتودونه د الیکترونیک، انرژۍ ذخیره کولو، او پرمختللو موادو کې د عصري غوښتنلیکونو لپاره انعطاف منونکي، لوړ فعالیت پاکولو ته اجازه ورکوي.