သန့်ရှင်းမှုမြင့်မားသော ဆာလဖာ

ယနေ့တွင် ကျွန်ုပ်တို့သည် သန့်စင်သော ဆာလ်ဖာကို ဆွေးနွေးပါမည်။
ဆာလဖာသည် အမျိုးမျိုးသော အသုံးချမှုများဖြင့် ဘုံဒြပ်စင်တစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်းကို ပိုးသတ်ဆေးဂုဏ်သတ္တိအတွက် တရုတ်တိုင်းရင်းဆေးပညာတွင် အသုံးပြုသည့်ယမ်းမှုန့် (“ကြီးကျယ်သောတီထွင်မှုလေးခု”) တွင် တွေ့ရှိရပြီး ပစ္စည်းစွမ်းဆောင်ရည်ကို မြှင့်တင်ရန်အတွက် ရော်ဘာ vulcanization တွင် အသုံးပြုသည်။ သို့သော် သန့်စင်မှုမြင့်မားသော ဆာလဖာတွင် ပိုမိုကျယ်ပြန့်သော အသုံးချမှုများပါရှိသည်။
High-Purity Sulphur ၏ အဓိကအသုံးပြုမှုများ
1. လျှပ်စစ်စက်မှုလုပ်ငန်း
o ဆီမီးကွန်ဒတ်တာပစ္စည်းများ- ဆာလဖိုင်တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း (ဥပမာ၊ ကက်မီယမ်ဆာလ်ဖိုင်ဒ်၊ ဇင့်ဆာလိုက်) သို့မဟုတ် ပစ္စည်းဂုဏ်သတ္တိများ တိုးတက်ကောင်းမွန်စေရန်အတွက် အသုံးပြုသည်။
o လီသီယမ်ဘက်ထရီများ- သန့်စင်မှုမြင့်မားသော ဆာလဖာသည် လီသီယမ်-ဆာလဖာ ဘက်ထရီ cathodes ၏ အရေးပါသော အစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်း၏ သန့်ရှင်းမှုသည် စွမ်းအင်သိပ်သည်းမှုနှင့် စက်ဝန်းဘဝအပေါ် တိုက်ရိုက်သက်ရောက်မှုရှိသည်။
2. ဓာတုပေါင်းစပ်မှု
o သန့်ရှင်းစင်ကြယ်သော ဆာလဖူရစ်အက်ဆစ်၊ ဆာလဖာဒိုင်အောက်ဆိုဒ်နှင့် အခြားဓာတုပစ္စည်းများ ထုတ်လုပ်ခြင်း သို့မဟုတ် အော်ဂဲနစ်ပေါင်းစပ်မှုတွင် ဆာလဖာအရင်းအမြစ်အဖြစ် (ဥပမာ၊ ဆေးဝါးဆိုင်ရာ ကြားခံပစ္စည်းများ)။
3. Optical ပစ္စည်းများ
o သတ်မှတ်ထားသော လှိုင်းအလျားအကွာအဝေးတွင် မြင့်မားသောထုတ်လွှင့်မှုကြောင့် အနီအောက်ရောင်ခြည်မှန်ဘီလူးများနှင့် ပြတင်းပေါက်ပစ္စည်းများ (ဥပမာ- chalcogenide မျက်မှန်များ) ကို ဖန်တီးခြင်း။
4. ဆေးဝါးများ
o ဆေးဝါးအတွက် ကုန်ကြမ်းများ (ဥပမာ၊ ဆာလဖာဆီမွှေးများ) သို့မဟုတ် ရေဒီယိုအိုင်ဆိုတုပ်တံဆိပ်ကပ်ခြင်းအတွက် သယ်ဆောင်သူများ။
5. သိပ္ပံသုတေသန
o အလွန်မြင့်မားသော သန့်စင်မှုလိုအပ်သော ကွမ်တမ်အစက်များ သို့မဟုတ် နာနိုဆာလဖာအမှုန်များ ပေါင်းစပ်မှုပြုလုပ်ခြင်း။
________________________________________
Sichuan Jingding နည်းပညာဖြင့် သန့်စင်သော ဆာလဖာသန့်စင်မှုနည်းလမ်းများ
ကုမ္ပဏီသည် အောက်ပါနည်းပညာများကို အသုံးပြု၍ အီလက်ထရွန်းနစ်အဆင့်မြင့် ဆာလ်ဖာ 6N (99.9999%) ကို ထုတ်လုပ်ပါသည်။
1. ပေါင်းခံခြင်း။
o အခြေခံမူ- ဆာလဖာ (ပွက်ပွက်ဆူမှတ်- 444.6°C) ကို လေဟာနယ် သို့မဟုတ် လေထုကို ပေါင်းခံခြင်းဖြင့် အညစ်အကြေးများနှင့် ခွဲထုတ်သည်။
o အားသာချက်- စက်မှုလုပ်ငန်းခွင် ထုတ်လုပ်မှု။
o အားနည်းချက်များ- အလားတူ ဆူပွက်နေသော အညစ်အကြေးများကို ထိန်းထားနိုင်သည်။
2. Zone Refining
o အခြေခံမူ- အစိုင်အခဲနှင့် အရည်အဆင့်များကြားတွင် အညစ်အကြေးခွဲခြားမှုကို အသုံးချရန် သွန်းသောဇုန်ကို ရွှေ့ပါ။
o အားသာချက်- အလွန်မြင့်မားသော သန့်စင်မှု (> 99.999%) ကို ရရှိသည်။
o Cons: စွမ်းဆောင်ရည်နိမ့်၊ မြင့်မားသောကုန်ကျစရိတ်။ ဓာတ်ခွဲခန်း သို့မဟုတ် အသေးစားထုတ်လုပ်မှုအတွက် သင့်လျော်သည်။
3. Chemical Vapor Deposition (CVD)
o အခြေခံသဘောတရား- ဓာတ်ငွေ့ဆာလဖိုက်များ (ဥပမာ၊ H₂S) သည် သန့်ရှင်းမှုမြင့်မားသော ဆာလဖာကို အလွှာများတွင် မြှုပ်နှံရန် ဓာတ်ငွေ့ကို ချေဖျက်သည်။
o အားသာချက်- အလွန်သန့်စင်သော ပါးလွှာသော ဖလင်ပစ္စည်းများအတွက် စံပြဖြစ်သည်။
o အားနည်းချက်- ရှုပ်ထွေးသော စက်ကိရိယာ။
4. Solvent Crystallization
o အခြေခံမူ- အညစ်အကြေးများကို ဖယ်ရှားရန်အတွက် ဆာလဖာအား ပျော်ရည်များ (ဥပမာ၊ CS₂၊ တိုလူene) သုံးပြီး ဆာလ်ဖာကို ပြန်လည်ပုံသွင်းသည်။
o အားသာချက်- အော်ဂဲနစ်အညစ်အကြေးများအတွက် ထိရောက်မှု။
o အားနည်းချက်များ- အဆိပ်အတောက်များကို ကိုင်တွယ်ရန် လိုအပ်သည်။
________________________________________
အီလက်ထရွန်းနစ်/အလင်းတန်းအဆင့်အတွက် လုပ်ငန်းစဉ် ပိုမိုကောင်းမွန်အောင်ပြုလုပ်ခြင်း (99.9999%+)
ဇုံသန့်စင်ခြင်း + CVD သို့မဟုတ် CVD + ဓာတုပစ္စည်းပုံဆောင်ခဲခြင်းကဲ့သို့သော ပေါင်းစပ်မှုများကို အသုံးပြုသည်။ သန့်စင်မှုနည်းဗျူဟာကို အညစ်အကြေးအမျိုးအစားများနှင့် သန့်စင်မှုလိုအပ်ချက်များနှင့် အံဝင်ခွင်ကျဖြစ်စေပြီး ထိရောက်မှုနှင့် တိကျမှုကို သေချာစေသည်။
ချဉ်းကပ်မှုသည် အီလက်ထရွန်နစ်ပစ္စည်း၊ စွမ်းအင်သိုလှောင်မှုနှင့် အဆင့်မြင့်ပစ္စည်းများတွင် ခေတ်မီသောအသုံးချပရိုဂရမ်များအတွက် လိုက်လျောညီထွေရှိသော၊ စွမ်းဆောင်ရည်မြင့် သန့်စင်မှုကို ပေါင်းစပ်ထားသည့်နည်းလမ်းများကို စံနမူနာပြသည်။