sulfur ketulenan tinggi

Hari ini, kita akan membincangkan sulfur ketulenan tinggi.
Sulfur ialah unsur biasa dengan pelbagai aplikasi. Ia ditemui dalam serbuk mesiu (salah satu daripada "Empat Ciptaan Hebat"), digunakan dalam perubatan tradisional Cina untuk sifat antimikrobnya, dan digunakan dalam pemvulkanan getah untuk meningkatkan prestasi bahan. Sulfur ketulenan tinggi, bagaimanapun, mempunyai aplikasi yang lebih luas:
Aplikasi Utama Sulfur Ketulenan Tinggi
1. Industri Elektronik
o Bahan Semikonduktor: Digunakan untuk menyediakan semikonduktor sulfida (cth, kadmium sulfida, zink sulfida) atau sebagai dopan untuk memperbaiki sifat bahan.
o Bateri Litium: Sulfur ketulenan tinggi ialah komponen kritikal katod bateri litium-sulfur; ketulenannya secara langsung memberi kesan kepada ketumpatan tenaga dan hayat kitaran.
2. Sintesis Kimia
o Pengeluaran asid sulfurik ketulenan tinggi, sulfur dioksida, dan bahan kimia lain, atau sebagai sumber sulfur dalam sintesis organik (cth, perantaraan farmaseutikal).
3. Bahan Optik
o Fabrikasi kanta inframerah dan bahan tingkap (cth, cermin mata chalcogenide) disebabkan oleh ketransmisian tinggi dalam julat panjang gelombang tertentu.
4. Farmaseutikal
o Bahan mentah untuk ubat (cth, salap sulfur) atau pembawa untuk pelabelan radioisotop.
5. Penyelidikan Saintifik
o Sintesis bahan superkonduktor, titik kuantum, atau zarah nano-sulfur, memerlukan ketulenan ultra tinggi.
________________________________________
Kaedah Pembersihan Sulfur Ketulenan Tinggi oleh Teknologi Sichuan Jingding
Syarikat mengeluarkan 6N (99.9999%) sulfur ketulenan tinggi gred elektronik menggunakan teknik berikut:
1. Penyulingan
o Prinsip: Mengasingkan sulfur (takat didih: 444.6°C) daripada bendasing melalui vakum atau penyulingan atmosfera.
o Kelebihan: Pengeluaran berskala industri.
o Keburukan: Boleh mengekalkan kekotoran dengan takat didih yang serupa.
2. Penapisan Zon
o Prinsip: Menggerakkan zon lebur untuk mengeksploitasi pengasingan kekotoran antara fasa pepejal dan cecair.
o Kelebihan: Mencapai ketulenan ultra tinggi (>99.999%).
o Keburukan: Kecekapan rendah, kos tinggi; sesuai untuk makmal atau pengeluaran berskala kecil.
3. Pemendapan Wap Kimia (CVD)
o Prinsip: Mengurai sulfida gas (cth, H₂S) untuk memendapkan sulfur ketulenan tinggi pada substrat.
o Kelebihan: Sesuai untuk bahan filem nipis dengan ketulenan yang melampau.
o Keburukan: Peralatan yang kompleks.
4. Penghabluran Pelarut
o Prinsip: Menghablurkan semula sulfur menggunakan pelarut (cth, CS₂, toluena) untuk menghilangkan kekotoran.
o Kelebihan: Berkesan untuk kekotoran organik.
o Keburukan: Memerlukan pengendalian pelarut toksik.
________________________________________
Pengoptimuman Proses untuk Gred Elektronik/Optik (99.9999%+)
Kombinasi seperti penapisan zon + CVD atau CVD + penghabluran pelarut digunakan. Strategi penulenan disesuaikan dengan jenis kekotoran dan keperluan ketulenan, memastikan kecekapan dan ketepatan.
pendekatan menunjukkan cara kaedah hibrid membolehkan penulenan yang fleksibel dan berprestasi tinggi untuk aplikasi termaju dalam elektronik, storan tenaga dan bahan termaju.